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通過高NA浸沒顯微鏡進行聚焦
時間:2021-05-10 17:21來源:未知作者: infotek點擊:列印
摘要

       在浸沒顯微鏡中,我們通常使用蓋玻片將浸沒液體和樣品分開。因此,PSF可能會因蓋玻片在
焦平面處的介面而變形,這在設計過程中通常不能被很好地考慮。 在VirtualLab Fusion中,可以直
接分析蓋玻片介面對PSF的影響,以完全向量的方式演示並分析蓋玻片後面的焦點變形。
 
 
       場景




       在VirtualLab Fusion中構建系統


       系統構建塊






        組件求解器


 


        系統構建塊





        總結


 


        幾何光學模擬

        通過光線追跡


        結果:光線追跡





       快速物理光學模擬

       通過場追跡


       在蓋玻片的最後一個介面之前聚焦





        聚焦在水中蓋玻片的最後一個介面後方



        在蓋玻片的最後一個介面之前聚焦




        聚焦在水中蓋玻片的最後一個介面後方


 


      總結

 


      文件資訊


一張含有 桌 的圖片描述是以非常高的可信度產生


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- Resolution Investigation for Microscope Objective Lenses by Rayleigh Criterion


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