用阿貝判據研究顯微系統的解析度 - 訊技科技股份有限公司

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用阿貝判據研究顯微系統的解析度

時間:2021-06-17 15:06來源:未知作者: infotek點擊:次列印

摘要

顯微系統的解析度一般用阿貝判據進行表徵。這也解釋了物鏡的數值孔徑(NA)決定了光柵(作為樣本)衍射階在
其後焦平面上的濾波。當高衍射級次的衍射被濾除後，像面不會發生干涉，因此不會成像。本實例演示了數值孔徑
NA對濾波效果和解析度的影響。

1. 案例

在VirtualLab Fusion中構建系統

1. 系統構建模組

2. 元件連接器

幾何光學模擬

以光線追跡

1. 結果：光線追跡

快速物理光學模擬

以場追跡

1. NA=1.4時的光柵成像

2. NA=0.75時的光柵成像

3. NA=0.5時的光柵成像

文件資訊

瞭解更多

-       Debye-Wolf Integral Calculator

-       Analyzing High-NA Objective Lens

-       Resolution Investigation for Microscope Objective Lenses by RayleighCriterion

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