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用阿貝判據研究顯微系統的解析度
時間:2021-06-17 15:06來源:未知作者: infotek點擊:列印
       摘要
 
       顯微系統的解析度一般用阿貝判據進行表徵。這也解釋了物鏡的數值孔徑(NA)決定了光柵(作為樣本)衍射階在
其後焦平面上的濾波。當高衍射級次的衍射被濾除後,像面不會發生干涉,因此不會成像。本實例演示了數值孔徑
NA對濾波效果和解析度的影響。
 
 
 


      1. 案例
 


 
 


       在VirtualLab Fusion中構建系統

 
       1. 系統構建模組
 
 
 



       2. 元件連接器
 
 




       幾何光學模擬

 
       以光線追跡


 
       1. 結果:光線追跡
 
 



       快速物理光學模擬

 
       以場追跡
 

       1. NA=1.4時的光柵成像
 
 
 




       2.  NA=0.75時的光柵成像
 
 
 


       3. NA=0.5時的光柵成像


 
 
 


       文件資訊
 

 

 


瞭解更多

-       Debye-Wolf Integral Calculator

-       Analyzing High-NA Objective Lens

-       Resolution Investigation for Microscope Objective Lenses by RayleighCriterion


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