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用於AR/MR的光波導足跡分析
時間:2022-03-17 17:55來源:未知作者: infotek點擊:列印
摘要

 
       用於增強或混合現實應用的任何類型的光導系統,其設計過程中的一個主要部分是用於輸入耦合器、輸出耦合器和出瞳擴展器光柵區域的配置。為此,對光傳播以及發生的光柵相互作用進行快速而簡單的概述非常有幫助:足跡分析。借助足跡和光柵分析工具,VirtualLab提供了一個強大的工具,可在此過程中為光學工程師提供支援。在本文檔中,討論了這個多功能工具的選項和功能。





足跡和光柵分析工具
 
  足跡和光柵分析工具是光導工具箱黃金版的一個特色。
 
  它可以在開始功能區的光導部分進行初始化。

 




操作工具的基本流程








步驟1:選擇要分析的設置。它可以通過佈局設計工具生成,詳見:


光導佈局設計工具


但是請注意,足跡和光柵分析工具並不局限於特定的佈局類型。您可以載入檔或直接從已經打開的文檔中選擇一個檔。





步驟2:定義該工具應該考慮的視場範圍。
步驟3:按一下分析按鈕。關於分析進度的詳細資訊將在按鈕下方的面板中提供。


理想和實際光柵結果


足跡和光柵分析工具的結果可以分為兩個方面:








相互作用的足跡數據






相互作用的足跡資料文檔提供了一個所有光束足跡打到一個給定的光柵區域的彩色編碼插圖,配置視場(FOV)的不同模式有不同的顏色。使用者可以選擇在圖中顯示的視場模式。

注意

  如果 VirtualLab Fusion記錄了部分入射光束,則取決於基本光路中的“通道解析度精度”設置。
  無論這個區域的光有多小或如何調製,該顯示都不會區分,並且將始終描繪完整的、相同大小的足跡圓。

 
中央視場的資料







傾斜視場模式資料








熱圖文檔







足跡原始資料文檔






 

  原始資料結果描述了每種視場模式下每個足跡的中心位置。
 
  這一資訊可用於確定相互作用的數量,並可作為在需要創建具有調製功能的光路時考慮適當支撐點數量的基礎。後者在案例光導上的光柵分析和光柵參數的平滑調製”中有更詳細的解釋。

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