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高NA傅立葉單分子成像顯微鏡
時間:2022-06-04 13:39來源:未知作者: infotek點擊:列印
1 摘要

 
傅立葉顯微術廣泛應用於單分子成像、表面等離子體觀測、光子晶體成像等領域。它使直接觀察空間頻率分佈成為可能。在高NA傅立葉顯微鏡中,不同的效應(每個透鏡表面上角度相關的菲涅耳損耗、繞射等)會影響單個分子最終獲得的圖像品質。快速物理光學軟體VirtualLab Fusion可以使用其強大的場追跡引擎對整個系統進行建模,包括菲涅耳損耗和孔徑繞射效應。本文給出了一個案例,並將模擬結果與文獻中的實驗結果進行了比較。
 




 
 
2. 建模任務






     3. 系統構建模組:偶極子源
  • 可程式設計光源允許指定任意橫向場分佈。 在我們的例子中,我們指定了偶極子產生的場。
  • 偶極子源發射一個局部偏振場(意味著 Ex 和 Ey 分量的空間分佈在源平面根本不同,因此不能用單個函數來表示)。
  • 為了準確地模擬偏振特性,我們採用了多光源,它允許我們為不同的分量定義不同的形貌。






4.系統構建模組:物鏡

 



 
5. 系統構建模組:管透鏡 & 伯蘭特鏡頭







6. 建模總結



 


 
 
7. 傅立葉平面上的圖像


 










 
8. 方向[0,1,0]的模擬對比

 




        為了進一步研究物理效應,我們採用偶極取向[0,1,0],並將得到的結果與實驗測量結果進行了比較[Juškaitis,施普林格US,(2006)]。藍色和綠色曲線取自模擬結果對應的一維截面。理想情況(忽略繞射)的截面參考用紅色表示。參考曲線資料通過參考文獻中給出的公式進行解析計算,最後導入VirtualLab Fusion。



 
 
9.VirtualLab Fusion技術








 
10. 檔案資訊

 


延伸閱讀  
- Analyzing High-NA Objective Lens Focusing
- Resolution Investigation for Microscope Objective Lenses by Rayleigh Criterion
- Reflecting Microscope System with Very High Numerical Aperture



 


 

 


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