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泰伯效應

時間:2022-07-12 14:29來源:未知作者: infotek點擊:次列印

在繞射光學中，當週期性結構被准直光照射時，可以觀察到在物體後面週期性距離處形成的週期性結構的圖像。這就是眾所周知的 Talbot 效應（用所謂的 Talbot 距離來描述週期性間隔），它已經在例如光刻中得到了常規應用。

利用快速物理光學建模和設計軟體VirtualLab Fusion的場跟蹤技術，可以充分研究這種效應及其應用。請看下面的例子，在這些例子中，我們用線性和交叉圖案演示Talbot效應的基本原理，並更仔細地研究特定的光刻應用，以產生奈米結構。

圓錐相位掩模版的泰伯成像

在VirtualLab Fusion中對帶有一層圓錐體的相位掩範本進行了嚴格的建模。檢測到不同的Talbot圖像，其中柱圖案在主圖像平面中再現，而孔圖案在次圖像平面中再現。

泰伯效應的建模

我們演示了Talbot效應的建模，Talbot效應是一種眾所周知的來自週期結構(如光柵)的近場繞射效應。

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