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錐形相位掩模的 Talbot 圖像
時間:2022-07-14 09:28來源:未知作者: infotek點擊:次列印
摘要
 
 
       在傳統的 Talbot 光刻中，在光敏層中僅使用一個圖像。 但是，可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的兩個圖像。 在本案例中，按照 I.-H. Lee 等人在 VirtualLab Fusion 中使用傅立葉模態方法 (FMM，也稱為 RCWA) 對具有一層錐體的相位掩模進行建模。可以檢測到不同的 Talbot 圖像，在主像平面中會再現柱狀圖案，而在次要像平面中再現孔圖案。

 
 
 
 
 
 
 
 
建模任務
 
 
 
 
 structure and material parameters from I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015)





系統建模組
 
 


 


特定位置的Talbot圖案
 
 
 
 
 
 
 
特定位置的Talbot圖案
 
 

 



不同位置的Talbot圖案
 
 
 
 
 

 
不同位置的Talbot圖案
 
 





沿 Z 軸的強度
 



 



VirtualLab Fusion技術
 





檔案資訊






延伸閱讀      

- Ultra-Sparse Dielectric Nano-Wire Grid Polarizers
- Grating Order Analyzer
- Modeling of the Talbot Effect
- Configuration of Grating Structures by Using Interfaces
- Configuration of Grating Structures by using Special Media

 

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