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反射式5×5繞射光束分束器的分析
時間:2022-09-05 18:00來源:未知作者: infotek點擊:列印
摘要

   

 


       繞射式分束器被廣泛用於光學應用中,以產生規則和不規則的圖案。所應用的繞射方法允許薄而輕的元件,但也導致它們對入射光線的角度高度敏感。在這個例子中,我們展示了這種效應對給定微結構設計的反射式5×5規則分束器的影響。該設計在正入射情況優化,其性能在不同入射角下被評估,並計算出相應的繞射圖案。之後,針對不同的入射角對設計進行了優化,例如通過改變微結構的高度。



建模任務




 



微結構
 
 

 





       反射型分光器是由Microstructure組件建模的。它可以在Components > Single Surface & Stack下找到。關於該元件的更多資訊可以在以下欄目中找到:



繞射光學元件(DOE)和微結構元件



微結構元件的配置



 


       - Microstructure元件由一個平面組成,在這個平面上應用具有Channel Operator with a Complex Surface Response。

       - 在Channel Operator的設置中,微觀結構是由提到的Complex Surface Response定義的,要麼是理想的,要麼是包含真實結構的Stack,也就是高度輪廓。

       - 在這個案例中,Sampled Grating被用來描述預期的高度輪廓,並應用在基面的背面。

       - 用於通過堆疊傳播的精度係數可以根據具體任務進行調整。在這個例子中,為了對表面進行充分的採樣,使用了一個2的係數。



總結-組件…



 
 
 
 



 
監測器平面上的繞射圖案




 

 
監測器平面上的繞射圖案




 


       分光器是在正入射下設計的,對於小角度(<10°),它提供了均勻的分光階數。然而,如果????增加到15°,由於路徑長度的差異,零階的效率超過了其他階。在實踐中,如果這樣的設備用於更高的角度,微結構的高度將被調整以補償這種影響。




高度縮放調製




 


探測器平面上的繞射圖案--有校正的高度




 

 
VirtualLab Fusion技術



 



檔案資訊







延伸閱讀      

       - Design of Diffractive Beam Splitters for Generating a 2D Light Mark

       - Structure Design

       - Diffractive Optical Element (DOE) & Microstructure Component
 



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