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回到DOE設計的未來

時間:2024-04-17 16:01來源:未知作者: infotek點擊:次列印

第一部分：

繞射分束器的設計與嚴格優化

在我們關於繞射光學元件（DOES）系列的第一部分中，我們想把注意力轉向繞射光束分束器，與光束整形器和勻光片等其他DOE不同，繞射光束分束器希望產生統一的離散模式。由於這些部件的工作原理是基於這些圖案表面對入射光的繞射，因此DOE光束整形器和光束分束器的設計可以比其折射對應物更薄、更輕，但所需的小結構尺寸使它們更難模擬，而且資源密集。

在這一領域，VirtualLab Fusion的快速、準確和靈活的模擬和設計演算法發揮了它們的優勢：不同的求解器的優勢，如薄元件近似（TEA）、嚴格耦合波分析（RCWA）和自由空間傳播的傅立葉技術相結合，使光學工程師不僅可以設計元件，還可以分析它們在複雜系統中的行為。

例如，我們想介紹一種非傍軸分束器的設計，該分束器通過應用嚴格的技術進一步優化。該案例深入研究了我們的繞射光學元件和微結構元件。

非傍軸繞射分束器的設計與嚴格分析

傅立葉模態法（FMM）應用於非傍軸繞射分束器的嚴格評估，該分束器最初是使用反覆運算傅立葉變換演算法（IFTA）和薄元件近似（TEA）設計的。

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