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可程式設計模式進行隨機分佈的公差分析
時間:2024-06-26 17:28來源:未知作者: infotek點擊:列印
使用參數運行可程式設計模式進行隨機分佈的公差分析

摘要


在VirtualLab Fusion中,當研究製造偏差對優化系統的影響時,可以使用隨機變化的參數運行。根據製造工藝的不同,不同參數的偏差可能遵循不同的隨機分佈規律。雖然參數運行的預設隨機模式假定均勻分佈,但在此案例中,我們想展示如何使用可程式設計參數運行對公差中涉及的每個參數應用不同的隨機分佈。作為說明,我們選擇了鋸齒光柵的例子,為此我們研究了負一傳輸級次的最低效率。













任務描述






VirtualLab Fusion中的系統 – 元件






VirtualLab Fusion中的系統 – 分析器






可程式設計參數運行







可程式設計參數運行選項






 
分佈類型





 
       在均勻分佈的情況下,點數將在允許的範圍內均勻分佈。正態分佈和截斷正態分佈都假設一個點被取的概率為高斯分佈。標準正態分佈和截斷正態分佈之間的區別在於,在截斷分佈的情況下,不會取參數範圍外的值,而是在範圍內生成一個新數。


 
效率的統計分佈







光柵公差






 
最低效率的級次效率






 
隨機分佈類型






 


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