高NA傅立葉顯微鏡單分子成像 - 訊技科技股份有限公司

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高NA傅立葉顯微鏡單分子成像

時間:2024-07-16 14:28來源:未知作者: infotek點擊:次列印

摘要

傅立葉顯微鏡廣泛應用于單分子成像、表面等離子體觀察、光子晶體成像等領域，

它使得直接觀測空間頻率分佈成為可能。

單分子的成像品質取決於高NA 傅立葉顯微鏡系統，例如，在複雜透鏡系統中，每個光學介面的角度相關的菲湼爾損耗和孔徑的繞射。VirtualLab Fusion可以在考慮菲湼爾損耗和孔徑繞射效應的情況下對整個系統進行建模。文中給出了一個案例，並與文獻中的實驗結果進行了比較。

建模任務

在傅立葉平面上成像

在傅立葉平面上成像

方向[0,1,0]的理想vs實驗以及理想vs模擬

實驗：繞射光闌在傅立葉平面上產生能量密度的波紋。理想模型(紅色曲線)和實驗(黑色曲線)的區別是雙重的：菲湼爾損耗和繞射。

模擬：物理光學考慮菲湼爾損耗和物鏡孔徑的繞射，導致在傅立葉平面上產生波紋，與實驗結果吻合較好。

紅色的曲線來自理想系統；黑色曲線來自實驗；藍色和綠色的曲線是從之前的幻燈片中提取的模擬輪廓的相應顏色。

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