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光學同調層析成像的工作原理

時間:2024-08-05 16:33來源:未知作者: infotek點擊:次列印

摘要

掃描干涉測量是一種表面高度測量技術。通過利用白色光源的低同調性，只有當路徑長度差落在同調性長度內時才出現干涉圖案。因此，它能夠實現非常精確的測量，這一特性在光學同調斷層掃描（OCT）的醫學成像中得到了利用，OCT正是利用了這一物理原理。VirtualLab Fusion在單個平臺上的各種可交互建模技術有助於對同調現象進行高效建模。在這個例子中，構造了一個帶有氙燈的邁克爾遜干涉儀，並用於測量具有平滑調製表面的樣品。

建模任務

模擬與設置：單平臺交交互操作

連接建模技術：光源

頻域方法

時域方法

互動式建模技術：消色差

消色差：鏡頭系統元件

互動式建模技術：分束器

互動式建模技術：自由空間傳播

.

互動式建模技術：帶樣品的鏡子

帶樣本的鏡子：採樣介面

連接建模技術：參考鏡子

連接建模技術：探測器

模擬結果

模擬干涉條紋

模擬干涉條紋–偽色

方法比較：LPIA與TEA

方法比較：頻域法與時域法

方法比較-偽色

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