光的散射特性對高端光學表面、薄膜和材料的發展起著至關重要的作用。其存在對於光學系統會造成例如散射損耗或者成像品質變差等影響。對於光學表面，常常用粗糙度來確定光學表面受散射影響後的光學特性。但在紅外元件、低損耗反射鏡（如雷射腔鏡）、表面粗糙度及缺陷、繞射光柵、薄膜、光學材料的體散射、無破壞的亞表面損傷測量、光譜散射等精密器件及高精領域中，通常都需要對散射特性進行定量評估，得到其散射分佈，更能夠説明我們對光學表面進行表徵。
角分辨散射測量法及其應用
利用光散射測量光學粗糙表面是目前發展較為快速和成功的技術，人們對這種技術做了大量的研究工作，使得光散射系統已經成為測量光學元件表面品質的主要手段之一。概括起來，光學表面的散射測量方法主要包括角分辨散射測量法和總積分散射測量法，二者分別以向量散射理論和標量散射理論為理論基礎。角分辨散射(Angle Resolved Scattering，簡稱ARS， )測量法是利用散射光的光強及其分 布來測量表面粗糙度參數。總積分散射(Total Integrated Scattering，簡稱TIS)測量法中，入射光以很小的入射角照射到隨機粗糙表面上，用積分球收集粗糙表面散射的漫反射光或者包含鏡向反射在內的總體反射光。TIS法一般儀器結構簡單、成本低、測量速度快、不易受環境影響，但最主要缺點是無法獲得光學表面形貌的全部特徵及散射光的空間分佈。ARS法雖然儀器結構複雜，成本較高，但能夠精確測量光散射的空間分佈，並通過其全空間積分，得到表面的總積分散射值，從而能夠獲取更完整更詳細的散射特性。
主要測量功能及參數
基於ASTM E2387標準的角分辨散射（BSDF，ARS）
基於ISO 13696標準的總散射值TS（Total scattering）
覆蓋整個3D空間的散射分佈（2D& 3D）
較小的近角限制（對於成像應用＜1°）
高靈敏度（動態範圍最大到達15個數量級，雜訊<0.05 ppm）
粗糙度靈敏度：<0.1 nm
測量模式：ARS , BRDF, BTDF, R, T, TS, 表面粗糙等
波長測量範圍：13.5 nm 到10.6
表面類型：平面&曲面
測量直徑：Max 700 mm
可測量波長概覽
測量實例：
例1：無樣品時對空氣進行ARS測試：
圖 1無樣品時的ARS測量（@405 nm,532nm and 640nm）
例2：在近紅外對Acktar1黑色塗層在不同入射角下的散射測量。
圖 2近紅外下對Acktar黑色塗層的散射測量，左圖：用於BepiColombo太空任務的紅外光譜儀；右圖：4.6 下ARS角分辨散射分佈，入射角0°，10°，40°，60°，80°。
例3：金剛石車削的鋁反射鏡。圖3中，左圖是車削痕跡引起的繞射為主的3D散射分佈，而右圖則是振動引起的繞射峰被抑制而入射面外散射增強的3D散射測量分佈。
圖 3金剛石打磨的Al鏡的3D光散射分佈及其白光干涉儀的表面形貌測量：左圖：車削痕跡引起的繞射為主的散射分佈；右圖：振動引起的繞射峰被抑制而入射面外散射增強的散射分佈。
例4： 金剛石打磨拋光鋁鏡的散射強度分佈掃描。散射掃描可以檢測樣本表面的散射源形貌並將其鮮明的表徵出來，驗證樣本表面的均勻性。
圖 4金剛石打磨拋光鋁鏡的散射掃描及其相應位置的ARS測量，左圖: 散射掃描@532nm，散射角25°，樣本大小200*160mm2；右圖：相應位置ARS測量。
備註：
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T. Kralik, D. Katsir, "Black surfaces for infrared, aerospace, and cryogenic applications", Proc. SPIE 7298, 729813 (2009)
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