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基於干涉的光學測試系統

時間:2023-05-09 15:40來源:未知作者: infotek點擊:次列印

為了對結構表面進行高精度檢查（通常用於半導體行業），可以使用基於干涉效應的光學測試系統。對這些設置的完整模擬需要包括所有物理光學效應，如結構處的繞射、同調性以及在圖像平面上產生的干涉。為了説明光學工程師完成這項任務，快速物理光學軟體VirtualLab Fusion提供了一系列工具，包括系統中的繞射和非序列建模。

隨著新版本2023.1的發佈，我們還提供了一種新的探測器概念，允許使用者直接根據場資訊計算可能感興趣的任何物理量。為了瞭解所有這些工具的是如何工作的，我們展示了以下兩個示例。在第一個例子中，使用高NA物鏡檢查非對稱微結構晶片，而在第二個例子中我們使用不同形狀的測試表面顯示了來自經典斐索干涉儀的輻照度圖案。

用於微結構晶片檢測的光學系統

該案例顯示了高NA晶片檢測系統的快速物理光學模擬，該系統通常用於半導體工業中檢測晶片上的缺陷。

光學檢測用的斐索干涉儀

借助非連續場追跡技術建立了斐索干涉儀，並顯示了來自幾個不同測試表面的干涉條紋。

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