摘要
元件內部場分析器：FMM允許使用者視覺化和研究微結構和奈米結構內部的電磁場分佈。為此，使用傅立葉模態法/嚴格耦合波分析（FMM/RCWA）計算週期性結構（透射或反射、電介質或金屬）內部的場。還可以指定場的哪一部分應該視覺化：正向模式、反向模式或兩者同時顯示。
元件內部場分析儀：FMM
元件內部場分析器：FMM是光柵光學裝置的獨有功能，可提供光柵結構內部電磁場的視覺化。
評估模式的選擇
為了更容易地區分入射場、反射場和透射場，可以僅評估正向或反向傳播模式，或者評估兩者的總和。
評價區域的選擇
元件內部場分析器：FMM可以輸出整個元件（包括基板）內部的場，或者只輸出一個堆疊或基塊（基板）中的場。
不同光柵結構的場分佈
任意形狀的光柵結構可以通過元件內部場分析儀進行分析。以下是幾個例子：
光柵結構的採樣
雖然分析儀為輸出資料提供了一些採樣選項，但系統中定義的光柵表面必須正確採樣（例如，分解點和過渡點的層數足夠）。
分解預覽展示了如何根據當前採樣因數對光柵結構進行採樣。
光柵結構的充分採樣意味著已經實現了收斂，即進一步增加採樣不會顯著影響產生的場。例如，如果層分解過於粗糙，則可能會由於縱斷面中的大臺階而產生其他影響。
輸出資料的採樣：一維週期光柵（Lamellar）
對於1D週期性（片狀）光柵，分析儀使用對話方塊“採樣”部分中指定的參數生成2D橫截面圖像。
輸出資料的採樣：二維週期光柵
當分析的光柵設置為2D Periodic時，Field Inside Component Analyzer：FMM將通過結構生成一系列二元截面，z方向的採樣參數決定執行的切割次數。
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