VLF應用：在高數值孔徑非球面透鏡的聚焦範圍內

最新公告：

當前位置: 首頁 > 服務項目 > 案例分析 > virtualLab >

時間:2025-02-11 14:52來源:未知作者: infotek點擊:次列印

摘要

在高NA聚焦情況下，光的向量性質起著不可忽視的作用。為了證明這種效果，採用高NA非球面透鏡聚焦準直的線性偏振高斯光束，並研究焦斑的不對稱性。通過檢查焦平面中的電磁場分量，可以發現不對稱性是由相對較強Ez分量引起的。

1. 建模任務

2. 結果

關於我們公司介绍專家團隊人才招聘訊技風采員工專區	服務項目產品銷售課程中心專業書籍項目開發技術諮詢
		聯繫方式地址：新北市永和區中正路746號9樓之5 電話：+886-2-3233-2748 傳真：+886-2-3322-9865 課程：course@infotek.com.tw 業務：sales@infotek.com.tw 技術：support@infotek.com.tw	官方微信

關於我們公司介绍專家團隊人才招聘訊技風采員工專區	服務項目產品銷售課程中心專業書籍項目開發技術諮詢
		聯繫方式地址：新北市永和區中正路746號9樓之5 電話：+886-2-3233-2748 傳真：+886-2-3322-9865 課程：course@infotek.com.tw 業務：sales@infotek.com.tw 技術：support@infotek.com.tw	官方微信