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用於高NA顯微鏡成像的工程化PSF |
時間:2021-06-07 14:57來源:未知作者: infotek點擊:次列印 |
顯微成像技術在最近的幾十年中得到迅速發展。 PSF(點擴散函數)通常不是像平面上的艾裡斑。當對沿縱
軸定向的偶極子源進行成像時,可以設計出一個甜甜圈形狀。 我們在VirtualLab Fusion中證明,當偶極子源的方
向發生變化時,會獲得不同的非對稱PSF(不是艾裡斑)。 此外,可通過在顯微鏡系統的光瞳平面中插入一定的
相位掩模來獲得雙螺旋PSF [Ginni Grover et al., Opt. Exp. 2012]。通過這種工程化的PSF,甚至可以觀察到物體
的微小散焦,即與傳統的成像方法相比,可以大大提高軸向解析度。 我們通過在VirtualLab Fusion中應用商業顯
微鏡鏡頭(Nikon)系統來演示此現象。
使用高NA顯微鏡系統分析偶極子源的PSF

在VirtualLab Fusion中,可以直接分析偶極子源的PSF。 該實驗證明了當偶極子源的方向改變時,PSF具
有不同的形狀。
用於3D成像顯微鏡的雙螺旋PSF

在VirtualLab Fusion中,通過在高NA顯微鏡系統的光瞳平面中插入相位掩模,以簡單快捷的方式分析雙
螺旋PSF。 結果表明,即使只有一點散焦(?130 nm)的物點,雙螺旋PSF也會有旋轉。
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