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VirtualLab 5.4更新說明 |
| 時間:2012-10-24 11:33來源:未知作者: infotek點擊:次列印 |
VirtualLab 5.4
更新時間：2012.9
更新服務：2012年第三季度的需要
安裝：在5.0或5.x.x的版本上安裝更新
光柵模擬
光柵分析方面有幾個性能的改進。這包括並行生成的過渡點和其他的傳輸點。因此，可以大幅度減少90%的計算時間或更多（具體數值依據具體應用）。
在光柵效率分析器中，衍射效率低於用戶自定義值的級次可以設置為0了。這會影響衍射效率和瑞利散射係數。
增加了一個選項來控制在0級產生的線性相位是否在光柵場內部分析器的結果中顯示。
光柵場內部分析器允許調整顯示區域，並允許對多個週期進行探測分析。
光柵場內部分析器的演算法進行了修訂。它現在的速度更快，同時允許對光柵內部的磁場進行計算。
分解預覽按鈕允許調整在X方向上的取樣資訊。
對非垂直的入射波，由FMM計算出的衍射級次的數目已經被優化了。
視圖和資料陣列
在光學系統和元件的3-D視圖中增加了一個長度比例。
現在更多的插值法可以應用到資料陣列中。一個點陣圖序列（可以輸出為AVI格式視頻）可以從由幾個子集組成的資料陣列生成。
增加了把資料陣列轉換成諧波場的功能。
一些操作的啟用使得資料陣列包括重新採樣和子集訪問的功能。同時，提供了一些新的探測器（最大值、最小值）。
光學表面
引入定義光學表面離散的高度水準（量化）的幾個模式。這樣，定義好的高度輪廓可以適用於不同的生產流程。
照明工具箱
局部線性光柵分析器現在可以處理不同波長和橫向模式的遠場光源。而且，它將記錄模擬的時間。
改進了具有光柵陣列的光學系統的性能和類比精度。
現在的光柵儲存格陣列製造輸出允許為csv格式的十進位數字和列分隔符號。
參數運行
顯示物理單位的屬性現在被放到參數運行、優化和反覆運算文檔中。
現在，合成輸出如諧波場設置一樣把諧波場設置結果結合在一起了。
參數運行允許改變由當前光路元件定位類型指定的角度。
對於鐳射諧振腔的分析，現在可以改變入射波長了。
處理
現在可以通過檢查更新功能表項目檢查VirtualLab™是否有更新。
在介面編輯對話方塊中顯示錯誤消息的方式得到改進。
現在可以直接對鍍膜層和材料進行編輯了。
現在允許通過原始程式碼的快顯功能表來列印程式設計的模組和片段了。
在主功能表中的一些專案和在光路樹性功能表都採取按字母順序排列。
光源
組合光源允許從多個光源類型中選擇光源，包括了可程式設計和存儲場光源。
Zemax檔的輸入
從Zemax中輸入的波長現在被認為是定義在空氣中的波長。為此，存儲在Zeamx檔中環境參數（溫度和壓強）會被考慮進去。
新增加並且更新了教程和應用案例
案例500：設計反射性的擴散器（新增）。這個應用案例演示的是設計和分析一個微結構化的鏡面來產生一個擴散角分佈。
案例 385.01：高數值孔徑的點陣圖擴散器的優化（新增）。這個應用案例演示了設計和分析一個高數值孔徑的衍射光學元件創建一個不畸變的網格點陣圖。
其他的幾個應用案例也已經更新了。
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