用於AR/MR應用的光導足跡分析 - 訊技科技股份有限公司

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用於AR/MR應用的光導足跡分析

時間:2026-04-10 16:46來源:未知作者: infotek點擊:次列印

摘要

足跡和光柵分析工具

操作工具的基本流程

步驟1：選擇要分析的設置。它可以通過佈局設計工具生成，詳見：

光導佈局設計工具

但是請注意，足跡和光柵分析工具並不局限於特定的佈局類型。您可以載入檔或直接從已經打開的文檔中選擇一個檔。

步驟2：定義該工具應該考慮的視場範圍。

步驟3：按一下分析按鈕。關於分析進度的詳細資訊將在按鈕下方的面板中提供。

理想和實際光柵結果

足跡和光柵分析工具的結果可以分為兩個方面：

相互作用的足跡數據

中央視場的資料

傾斜視場模式資料

熱圖文檔

足跡原始資料文檔

原始資料結果描述了每種視場模式下每個足跡的中心位置。

這一資訊可用於確定相互作用的數量，並可作為在需要創建具有調製功能的光路時考慮適當支撐點數量的基礎。後者在案例“光導上的光柵分析和光柵參數的平滑調製”中有更詳細的解釋。

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