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Runsheet和Monitorlink Enhancements
時間:2010-12-23 20:31來源:訊技光電作者: 技術部點擊:列印

•對反射和透射監控計算光學信號

•當膜層沈積時,動態加工因子(Dynamic Tooling Factors)可以不同

•信號數據可以適應自定義範圍

•對每個膜層,監控波長和帶寬都可以改變

•對每個膜層可以用不同的校驗芯片

•Monitorlink 可以將沈積設計反映到光學和晶體監控上

•監控數據的圖表可以為手動監控打印出來

Runsheet和Monitorlink特點

RUNSHEET操作

要建立一個runsheet, 在Essential Macleod中打開一個空白表格, 指定設計和機器配置,然後點Calculate。 Runsheet會自動指定光源、使用加工因子,計算信號。用戶可以改變所以參數中任何一個,如指定光源、監控芯片、波長、帶寬。點擊Calculate,run sheet立即更新。除了計算機的容量以外,對膜層數、芯片數等沒有實際限制。

Runsheet計算信號偏移的表格和曲線。通過可以應用到單個膜層的0偏移和放大的控制,可以適應自定義的範圍。根據信號的水平和最後一個峰-峰偏移的比例,表格中出現膜層終止信息。

直接修改監控參數,所以在實際沈積以前可以評估不同的監控計劃。Runsheet上的信息還可以拷貝到剪貼板,用於其它的處理和其它應用格式。每個run sheet存成單獨的文件。重新調用時,Runsheet 檢查後續的材料數據或機器配置的任何變化,給出適當的警告。

機器配置

生產沈積計劃的第一步是描述鍍膜機,這一步對每臺機器只需要做一次,在Machine Configuration編輯器上輸入。相關的信息包括機器可以提供的材料和來源的名稱, 對光學監控器, 可以提供的每種不同類型的芯片和其光學參數,監控硬件的有些物理設置的細節;對晶體監控器,晶體控制器的工作單位。在一個機器配置中,可以同時存在光學和晶體監控器。

MONITORLINK

Monitorlink允許Essential Macleod和指定的沈積控制器通信。它將控制器的知識加到Essential Macleod中去, 包括控制器能夠實際執行沈積程序的能力,也可以將程序裝載到控制器中去。

如果控制器沒有合適的PC設置程序,則Monitorlink也包括它的設置程序,它可以管理它們之間的通信。對光學控制器,要求Runsheet enhancement;對晶體控制器,Runsheet enhancement 是可選項。

當Runsheet存在時,動態加工因子應用到膜層厚度上。沒有Runsheet時,晶體控制器裝載未修改的設計厚度。因為它們的操作和約束中不同,Monitorlink必須為指定的控制器定做。


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