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光學設計中的製造風險

面向光學設計師的製造

光學製造鏈設計

光學設計中的光學加工

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光學設計中的製造風險管理
時間:2025-04-15 14:38來源:未知作者: infotek點擊:列印
O.Faehnle1 and I.Livshits2
1 OST-University of Applied Sciences, Buchs, Switzerland,
2ITMO University, St. Petersburg, Russia
O·費恩勒1與I·利夫希茨2
1瑞士布克斯應用科學大學,
2聖彼德堡國立資訊技術、機械與光學研究大學,俄羅斯聖彼德堡
 

摘要.本文系統闡述為特定光學元件確定最佳光學製造技術(OFT)組合的策略,並將應用到光學製造鏈的構建中。為此,研究團對光學系統進行了分類,並將其與光學加工技術的關鍵特性聯繫起來——這些關鍵特性是通過對其加工參數進行系統分析確定的。



       1. 簡介

           在光學製造技術中,可預測且穩定的製造工藝對成本與品質進行可靠管理至關重要。本文闡述了針對特定光學元件與系統,如何來確定光學製造鏈中應採用的最佳光學製造技術(OFT)組合的策略。


       2. 光學系統的產生和分類

            人類一直將光作為一種工具,用於解決日常生活中的一些挑戰,如探測、照明與資訊傳輸。而要將光作為工具應用,則需依賴光學系統。因此,光學系統(例如物鏡、干涉儀、光學滑鼠、內窺鏡、望遠鏡或雷射器等)正是如今我們用以滿足核心需求的“光學工具”典範。在光學系統的生成過程中(即由多種光學元件經合理裝配並協同運作構成的系統),需依次涉及三個核心環節:首先是“光學系統設計”,其次是“光學製造設計”,最後是實際“製造”(見表1)。



表1.光學系統的生成過程


“光學設計師”的職責在於將客戶需求轉化為一個公差設計良好的光學系統方案,該系統需包含各類光學元件(如透鏡、反射鏡、分光鏡等),並確保這些元件能按需調製透射光的特性。
隨後,由“光學製造設計師”將已完成的光學系統設計規格及所採用光學元件的公差要求,轉化為最佳的製造流程鏈。這一流程鏈由一系列後續製造步驟組成,需綜合考慮現有設備與技術條件,確保在最低製造成本下實現最佳性能。此外,還需綜合考慮系統的穩定性、耐久性,以及製造商、終端使用者和環境的安全性。在優化後的製造流程中,每個加工步驟(例如拋光1)均需選用特定的光學製造工藝(如氣囊拋光2、碗式進給拋光3、磁流變拋光4、離子束修形5、超精密成形拋光6、單點金剛石車削7或流體噴射拋光8),具體選擇何種工藝,取決於品質、製造成本與生產數量之間的最佳平衡。

       最終,光學系統將按照制定的製造流程和工藝進行生產,確保所有加工環節均不超過設計公差範圍,從而製造出完全符合客戶需求的功能性光學工具。光學系統可採用多種分類策略,例如:按應用領域(如天文、醫療、照明、光刻);按儀器類型(如顯微鏡、望遠鏡、內窺鏡、干涉儀)。

       然而,如果想要確定這些特定光學元件的最優製造工藝,必須根據其四大核心製造特性對其進行表徵(詳見表2)。這些特性在表2中進行了總結。
 



表2.光學元件的分類
 

       3. 光學製造技術分類


             儘管有少數光學製造技術已存在數千年,但自1670年荷蘭代爾夫特首次工業化生產列文虎克(Leeuwenhoek)顯微鏡以來,光學製造技術的多樣性開始顯著提升;加之此後應用領域與品質要求的持續攀升(見圖1),如今光學製造技術已激增至逾300種,使得針對特定光學元件如何選擇最優工藝成為了一大挑戰。



1. 光學製造技術數量發展示意圖:從克裡特島發現的古代透鏡起源,經1670年首次工業化光學製造,直至當今的技術演進歷程。

 
       從方法論角度分析光學製造技術,我們發現其核心僅基於約11種拋光技術:新鮮進給拋光(FFP)、延性加工(DG)、化學拋光(CP)、碗式進給拋光(BFP)、彈性發射加工(EEM)、磁流變拋光(MRF)、雷射火焰拋光(LP)、離子束修形(IBF)、磨料漿射流加工(ASJ)、等離子體輔助化學蝕刻(PACE)、雷射誘導背面濕法刻蝕(LIBWE)。

       若分析不同拋光技術與加工表面間的相互作用,可識別出5種基於以下原理的磨損機制(詳見圖2):兩體磨損(Two-body abrasion)、三體磨損(Three-body abrasion)、動能磨損(Kinetic abrasion)、能量傳遞(Energy transmission)、化學反應(Chemical reaction)。每種機制在性能與適用性上均存在特定優劣勢(圖2中以“+”和“-”標注)。進一步地,這5種機制可基於圖3所示的5類磨損過程進行組合,包括:(a) 脆性破裂(Brittle cracking)、(b) 延性流動(Ductile flow)、(c) 化學反應(Chemical reactions)、(d) 熱效應(Heat)、(e) 濺射(Sputtering)。
 



圖2. 光學拋光技術的五大磨損機制應用示意圖,每種機制在生成光學元件時均具備特定優勢(“+”)與短板(“-”)特性
 

       基於上述分析,可依據磨損機制類型及其所涉及的磨損過程組合,對現有的11種拋光技術進行分類(詳見表3)。
 



表3.光學拋光技術的分類

 

       4. 光學元件與製造技術的匹配


            通過綜合考慮光學元件的四大關鍵特性(詳見表2),並將拋光技術的分類方法(表3總結)拓展至加工運動學特性及工具-工件接觸類型(如點接觸、線接觸、面接觸),即可構建光學製造技術的系統性分類與建模框架。

            因此,在光學系統的設計階段,就可基於資料驅動為特定光學元件製造匹配最優製造技術。
圖3與圖4示例展示了如何運用光學製造技術的方法論分析,為球面透鏡確定最優製造流程鏈,從而實現生產風險最小化。







圖3. 玻璃製成的球面雙凸透鏡



圖4. 對圖3所示雙凸透鏡製造流程的建模:識別實現最低成本製造鏈所需的最優光學製造技術。


 
參考文獻:


       1. Cook, Lee M. "Chemical processes in glass polishing." Journal of non-crystalline solids 120.1, pp. 152-171, 1990;

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       3. J.van Wingerden, H.J. Frankena and B.A. van der Zwan, “Production and measurement of superpolished surfaces”, Optical Engineering 31, 1086-1092, 1992;

       4. William I. Kordonski and Stephen D. Jacobs, “Magnetorheological finishing”, Int. J. Mod. Phys. B 10, 2837, 1996;
       
       5. Franz Thomas, and Thomas Hänsel, "Ion beam figuring (IBF) solutions for the correction of surface errors of small high performance optics." Optical Fabrication and Testing. Optical Society of America, 2008;

       6. Edd Fess ; J. Schoen ; M. Bechtold ; D. Mohring, “UltraForm finishing”, Proc. SPIE 5786, Window and Dome Technologies and Materials IX, 305, doi:10.1117/12.606468, 2005;

       7. Jiwang Yan, J. Tamaki, K. Syoji, T. Kuriyagawa, “Single-point diamond turning of CaF2 for nanometric surface”, The International Journal of Advanced Manufacturing Technology, Volume 24, Issue 9, pp 640-646, 2004

       8. O. Fähnle, H. van Brug and H. Frankena, "Fluid Jet Polishing of optical surfaces", Applied Optics 37(28), 6771-6773, 1998;
 
 
 


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