摘要
建模結果與測量資料的比較對於任何光學元件的設計過程都非常重要。因此,有必要將測量到的高度剖面(例如微結構的高度剖面)導入建模軟體,以評估真實元件的性能。因此,在本文檔中,我們將展示如何使用點陣圖檔導入高度資料。
簡介
步驟 1
- 使用Import功能將點陣圖影像檔作為Data Array導入。
步驟 2
- 設置資料陣列的座標、插值和外推法。
步驟 3
- 設置資料陣列的物理屬性。由於預設的長度單位是米,因此一定要指定一個合適的係數來表示微結構的高度。
步驟 4
- 檢查導入資料陣列的高度值,並通過Manipulation功能表進行調整(例如,應用常數乘法)。
步驟 5
- 使用Microstructure或DOE Component -> Channel Operator -> Stack
步驟 6
- 將導入的資料陣列載入到採樣介面
步驟 7
- 將堆疊的擴展設置為 DOE 的大小
步驟 8
- 如果需要,增加 TEA 演算法的採樣係數
導入的 DOE 的 3D 視圖
使用導入 DOE 創建的繞射光束分束器
我們使用導入的 DOE 構建繞射光束分束器。緊跟在 DOE 之後的相位輪廓反映了從 DOE 載入的高度輪廓。從遠場圖片中,我們可以觀察到 DOE 起到了 5 × 5 光束分束器的作用。這可以通過調整折射率等參數進一步優化。
檔案資訊
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