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和
是通過應用嚴格耦合波分析（RCWA），也被稱為傅立葉模態法（FMM）來計算。因此，在研究光柵樣品的情況下，這些係數也可以是特定繞射階數的瑞利係數。
，0.1°為
）。因此，即使是塗層中的亞奈米變化也可以通過橢偏儀來測量。
和
的差異。
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