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JCMSuite應用—衰減相移掩模

時間:2021-08-27 13:56來源:未知作者: infotek點擊:次列印

在本示例中，模擬了衰減相移掩模。該掩模將線/空間圖案成像到光刻膠中。掩模的儲存格如下圖所示：

掩模的基板被具有兩個開口的吸收材料所覆蓋。在其中一個開口的下方，位於相移區域。:

由於這個例子是所謂的一維掩模(線/空間模式)，在xy平面中有一個2D模擬域。在原始檔案中設置3DTo2D =

yes標籤，以執行用戶自訂傳入方向的自動轉換。啟用此標記後，就可以描述傳入區域，就好像光軸與Z軸重合

一樣。這允許統一設置2D和3D的掩模模擬專案。由於光線從基板下方進入，光線的傳輸方向為+Z方向。

相位分佈如下圖所示:

相移區域的影響清晰可見，導致開口上方光束的180度相位差。同時光場的S和P分量也顯示出相位差:

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