JCMsuite應用：電磁場與獨立的接觸孔的相互作用

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時間:2023-06-17 18:05來源:未知作者: infotek點擊:次列印

本案例為獨立接觸孔的模擬，如下所示:

在佈局中文件layout.jcm中定義的幾何設置，給定的平行四邊形定義了掩模上邊長為280nm的孔洞大小。由於這種模式建模時定義為孤立的，它在橫向上被吸收掩模材料包圍。在JCMsuite中，通過定義一個圍繞幾何單元的ConvexHull，可以方便地建立這個結構。這將自動建立一個ConvexHull與封閉模式的最小距離偏移。對於ConvexHull其功能變數名稱、優先順序和邊界條件可以像往常一樣定義。

由於掩模模式是孤立的，因此任意數量的相同頻率、不同入射方向的入射平面波都可以定義為光源。

光瞳面的西格瑪座標用來定義不同的入射方向。在底部顯示了傳輸磁場的一些圖。後處理傅立葉變換的定義類似於週期設置。然而，在孤立的情況下，計算了一個離散表示的連續傅立葉變換的掩模遠場分佈。連續傅立葉變換因此在k空間的笛卡爾網格上採樣。得到的模擬結果如下所示：

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