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光柵的優化與分析

時間:2023-02-15 17:37來源:未知作者: infotek點擊:次列印

光柵是光學工程師使用的最基本的工具。為了設計和分析這類元件，快速物理光學建模和設計軟體VirtualLab Fusion為使用者提供了許多有用的工具。其中包括參數優化，以輕鬆優化系統，以及參數運行，它允許您執行參數掃描，以研究這些參數對設置的總體效果的影響。此外，還可以用於詳細研究具體製造過程中的偏差引入的影響。不同的求解器也可以供您使用來模擬場與光柵的相互作用，具有不同的假設和相應的近似水準。這些方法的範圍從嚴格的傅立葉模態法（FMM）到適用於具有淺浮雕大型結構的薄元近似法（TEA）。

薄元素近似法（TEA）對比傅立葉模態法（FMM）進行光柵建模

研究了兩種常用但原理不同的分析光柵繞射效率的演算法： TEA和FMM（也稱為RCWA）。比較了不同週期的兩種類型的光柵（正弦和閃耀）結果。

傾斜光柵的參數優化及公差分析

以傅立葉模態法（FMM）作為參數優化的核心，設計了一個傾斜光柵來實現高繞射效率將光耦合到光波導中的目的。此外，還分析了包括圓角邊緣在內的製造公差。

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