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基於橢圓偏振法的光學薄膜測量 |
| 時間:2023-04-21 14:23來源:未知作者: infotek點擊:次列印 |
橢圓偏振法是一種光學測量方法，它利用了光在被表面反射（或透過）時發生的偏振變化，例如塊狀材料或薄膜。隨著時間的推移，它在半導體和光學塗層應用中得到了普及，因為與傳統的反射測量相比，它的靈敏度更高。 因此，橢圓偏振法現在被用來準確地表徵不同樣品的成分、粗糙度、厚度、結晶特性、導電性和其他材料特性。
在最新發佈的快速物理光學軟體VirtualLab Fusion 2023.1中，橢圓偏振分析器已被添加到該軟體不斷增加的功能陣列中。它提供了一個簡單明瞭的方法，通過在模擬產生的電磁場結果上應用橢圓偏振的概念來研究塗層、多層結構和光柵的特性。此外，它還提供了在分析儀內自動掃描波長和入射角的可能性，從而方便地生成典型的橢圓偏振曲線，這些曲線在擬合到一個模型後，可以繼續揭示我們試圖從這些實驗中獲得的材料特性。你可以在下面找到解釋如何使用這個新的分析儀的檔連結，以及一個應用于二氧化矽塗層測量的例子。
橢圓偏振分析器
本案例展示了橢圓偏振法的基本原理，並說明了VirtualLab Fusion中內置的橢圓儀分析器的使用。
SiO2塗層的可變角度光譜橢圓偏振（VASE）分析
本案例說明了在VirtualLab Fusion中實現的橢圓偏振分析器在文獻中的使用：Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999).
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