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SiO2膜層的可變角橢圓偏振光譜(VASE)分析
時間:2023-04-21 14:13來源:未知作者: infotek點擊:列印
摘要





       可變角度橢圓偏振光譜儀(VASE)是一種常用的技術,由於其對光學參數的微小變化具有高靈敏度,而被用在許多使用薄膜結構的應用中,如半導體、光學塗層、資料存儲、平板製造等。在本案例中,我們演示了VirtualLab Fusion中的橢圓偏振分析器在二氧化矽(SiO2)塗層上的使用。對於系統的參數,我們參考Woollam等人的工作 "可變角度橢圓偏振光譜儀(VASE)概述。I. 基本理論和典型應用",並研究該方法對輕微變化的塗層厚度有多敏感。



描述

 

 



 

       關於配置堆疊的更多資訊。

      利用介面配置光柵結構
 

       一般光柵元件能夠對週期性結構進行建模。在各向同性的情況下,使用一個非常小的週期,以確保只有0階會傳播。二氧化矽層也是根據參考文獻來定義的。

       - 塗層厚度:10奈米
       - 塗層材料。二氧化矽
       - 折射率:擴展的Cauchy模型。
       
         

  
      
       - 基板材料:晶體矽
       - 入射角度。75°
 

 
 

橢圓偏振分析
 
 

 


       橢圓偏振分析儀用於計算相位差,以及反射光束的振幅分量 。

       有關該分析儀的更多資訊可在這裡找到。

      橢圓偏振分析儀
 


 


總結 - ...









橢圓偏振係數測


       橢圓偏振分析儀測量反射係數(s-和p-極化分量)的比率,並輸出相位差,以及振幅分量Ψ,根據



       在VirtualLab Fusion中,複數係數是通過應用嚴格耦合波分析(RCWA),也被稱為傅立葉模態法(FMM)來計算。因此,在研究光柵樣品的情況下,這些係數也可以是特定繞射階數的瑞利係數。





橢圓偏振小厚度化的敏感性


       為了評估橢偏儀對塗層厚度即使是非常小的變化的敏感性,對10奈米厚的二氧化矽層和10.1奈米厚的二氧化矽膜的結果進行了比較。即使是厚度的微小變化,1埃的差異也高於普通橢圓偏振的解析度(0.02°為T,0.1°為*)。因此,即使是塗層中的亞奈米變化也可以通過橢偏儀來測量。





* 數值根據Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999)
 


模擬結與參考文的比
 

       被研究的SiO2層厚度變化為1埃時,的差異。

 
 

 
VirtualLab Fusion



 



檔案資訊


 
 
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