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準直系統中鬼影效應的研究

時間:2023-03-09 15:58來源:未知作者: infotek點擊:次列印

摘要

模擬技術的主要作用之一是提供一個平臺，以便在系統製造之前研究系統的性能，以便盡可能多地預防潛在的缺陷。雜散光是影響系統性能的最常見現象之一，雜散光可能有多個來源，其中包括系統中的內部偽反射。在這個案例中，我們分析了高Na雷射二極體準直透鏡系統中這種反射的存在，我們模擬了產生的鬼影對探測場的影響(由主準直光束的干涉引起的同心環圖案和由雜散光產生的二次發散)，並確定需要在透鏡系統的關鍵表面上塗上抗反射塗層。

建模任務

準直系統

非序列追跡

總結—元件…

系統光線追跡結果

完美的減反射(AR)塗層

有內部反射

檔案資訊

延伸閱讀

- Modeling of Etalon with Planar or Curved Surfaces
- Channel Setting for Non-Sequential Tracing

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