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用於微結構晶片檢測的光學系統 |
| 時間:2023-05-09 15:12來源:未知作者: infotek點擊:次列印 |
摘要
在半導體工業中，晶片檢測系統被用來檢測晶片上的缺陷並找到它們的位置。為了確保微結構所需的圖像解析度，檢測系統通常使用高NA物鏡，並且工作在UV波長範圍內。作為例子，我們建立了包括高NA聚焦和光與微結構相互作用的完整晶片檢測系統的模型，並演示了成像過程。
任務描述
微結構晶圓
通過在堆疊中定義適當形狀的表面和介質來模擬諸如在晶片上使用的週期性結構的柵格結構。然後，該堆疊可以導入到各種不同的元件中，具體取決於預期用途。在這種情況下，我們將堆疊載入到一般光學設置中的一個光柵元件中，以便模擬整個系統。有關詳細資訊，請參閱：
用於通用光學系統的光柵元件
微結構晶片的角度回應
該光柵元件使用傅立葉模態法(FMM)，也稱為嚴格耦合波分析(RCWA)，其運作在k域中。當入射大NA光束時，需要考慮在k域中有足夠數量的採樣點來解決角度敏感效應。在光柵元件的求解器區域中，使用者可以輕鬆地調整此參數，以確保快速而準確的模擬。
大NA物鏡
Lens System Component允許輕鬆定義由光滑表面和均勻、各向同性介質的交替序列組成的元件。在介面和材料方面，可以從內置目錄中選擇現成的條目，也可以定制自己的條目，以實現最大的靈活性。
通用探測器和探測器外掛程式
通用探測器可以評估入射場，並通過所謂的附加元件計算各種物理量。作為結果，所提供的附加元件之一提供了空間域中的輻照度。有關詳細資訊，
請參閱：通用探測器
非序列追跡
將通道配置模式切換設置為手動配置後，使用者可以為系統中的每個表面指定要為模擬打開哪些通道。當運行模擬時，將執行活動光路的初步分析(通過所謂的光路查找器)。然後，引擎將沿著這些光路追跡磁場，直到系統中的探測器。
用於非序列追跡的通道設置
總結-組件
系統印象
場追跡結果
結果的非對稱
光柵的非對稱性也導致干涉中的輕微不對稱性。可以在結果中識別光柵是否鏡像，結果也將顯示為鏡像。
VirtualLab Fusion技術
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